03 Апреля 2026
Как отмечается в отчете, Квон заявил, что Китай ускоряет развитие полупроводникового оборудования. Он указал, что страна использует разработанные внутри страны инструменты DUV-литографии, чтобы обойти ограничения США на EUV-литографию. Согласно прошлогоднему отчету EENews Europe, Huawei тестирует компоненты для системы EUV-литографии на своем заводе в Дунгуане. Источники, цитируемые в отчете, говорят, что опытный запуск производства схем может состояться во втором квартале 2025 года, а полномасштабное производство запланировано на 2026 год. Система использует источник света на основе лазерно-разрядной плазмы (LDP) для генерации света с длиной волны 13,5 нм, что является более дешевой альтернативой лазерно-плазменной обработке (LPP), используемой в EUV-машинах ASML.В настоящее время Китай развивает ключевые технологии, необходимые для передового производства полупроводников, включая источники света, оптические системы и прецизионную механику, отмечает Chosun Daily. Между тем, Квон заявил, что Китай почти догнал другие страны по зрелым технологиям выше 10 нм, а секторы полупроводниковых материалов, компонентов, оборудования и упаковки также быстро расширяются, добавляется в отчете.
Квон отметил, что стремление Китая к развитию полупроводниковой отрасли подкрепляется рядом структурных преимуществ, включая большой внутренний рынок и десятилетия устойчивого государственного финансирования, позволяющего компаниям наращивать потенциал посредством долгосрочных экспериментов. Китай также активно инвестирует в развитие талантов: университеты расширяют преподавательский состав по полупроводниковой отрасли, аспирантские программы и чистые помещения, часто при поддержке местных властей за счет дешевой электроэнергии и инфраструктуры.
Возможно, в Китае появится второй завод по производству 7-нм чипов
Примечательно, что стремление Китая к развитию передовых чипов, похоже, ускоряется. По данным Reuters, источники сообщают, что Huali Microelectronics — подразделение контрактного производства китайской Hua Hong Group — готовит 7-нм техпроцесс на своем заводе в Шанхае. Если это будет реализовано, Huali станет вторым китайским производителем чипов, способным производить чипы по этому техпроцессу, после SMIC, крупнейшего завода страны. В отчете также отмечается, что Hua Hong является вторым по величине производителем микросхем в Китае.
Источники, цитируемые Reuters, сообщают, что разработка 7-нм техпроцесса началась в прошлом году на заводе Hua Hong Fab 6 компании Huali при поддержке отечественных поставщиков оборудования, включая компанию SiCarrier, финансируемую Huawei. Компания планирует к концу 2026 года достичь начальной производственной мощности в несколько тысяч пластин в месяц, а со временем — увеличить ее. Между тем, китайский разработчик графических процессоров Biren использует 7-нм линию Huali для этапа «tape-out», сообщают источники Reuters. «Tape-out» — это этап, на котором дизайн микросхемы дорабатывается и отправляется на изготовление прототипа перед массовым производством, отмечается в отчете.
источник: Trendforce