09 Сентября 2026
Мировая индустрия оксида галлия долгое время сталкивалась с ограничениями, связанными с малыми размерами пластин, ограниченными производственными мощностями и плохой однородностью. Большинство коммерчески доступных продуктов ограничивались пластинами размером от 2 до 4 дюймов, что затрудняло крупномасштабное производство современных силовых устройств.Создав полный процесс массового производства, компания Garen утверждает, что преодолела ключевые барьеры коммерциализации и стала первым — и на данный момент единственным — поставщиком в мире, способным осуществлять коммерческие поставки 6-дюймовых гомоэпитаксиальных пластин оксида галлия.
Производственная линия сочетает в себе запатентованную компанией Garen технологию выращивания монокристаллов методом литья с оптимизированным процессом эпитаксии MOCVD. Собственный метод выращивания кристаллов позволяет производить сверхтолстые кристаллы оксида галлия, а процесс получения сверхтонких подложек увеличивает выход продукции в три-четыре раза по сравнению с традиционными подходами.
Технология также значительно снижает потребление иридия, уменьшая стоимость подложек более чем на 80% на одну пластину и помогая сократить затраты на материалы для производителей последующих устройств.
Данные о квалификации продукции показывают, что ее 6-дюймовые гомоэпитаксиальные пластины из оксида галлия имеют эпитаксиальные слои толщиной более 10 мкм, с вариацией толщины менее 1%. высокий уровень однородности будет способствовать повышению выхода годных изделий для высокопроизводительных устройств, предназначенных для высоковольтных, высокочастотных и высокотемпературных применений.
Что касается производства, Garen создала полностью интегрированную производственную цепочку, охватывающую выращивание монокристаллов, обработку подложек и гомоэпитаксию. Сообщается, что производственная линия, совместимая с 6- и 8-дюймовыми пластинами, достигла стабильного и контролируемого качества партий. Помимо долгосрочных соглашений о поставках с крупными отечественными производителями микросхем, компания сообщила, что несколько зарубежных предприятий и исследовательских институтов также разместили заказы, что ускоряет коммерческое внедрение.
Оксид галлия, полупроводниковый материал со сверхширокой запрещенной зоной, обладает высокой прочностью на пробой, низкими потерями проводимости и высокими эксплуатационными характеристиками при высоких температурах. Он считается перспективным материалом для таких применений, как высоковольтные электросети, электромобили, фотоэлектрические системы хранения энергии и передовые радиочастотные системы связи.
переход к большим размерам кремниевых пластин значительно повысит эффективность производства: 8-дюймовая пластина позволит производить примерно в четыре раза больше чипов, чем 4-дюймовая, что улучшит экономику крупномасштабного производства.
источник: Trendforce